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提交專利技術(shù)交底時,如何完善技術(shù)或產(chǎn)品內(nèi)容?

來源:東創(chuàng)網(wǎng) | 發(fā)布日期:2023-05-23

專利技術(shù)交底是專利申請前十分重要的一個步驟,技術(shù)完善過程也是產(chǎn)品完善的關(guān)鍵點,這是專利技術(shù)交底的核心重點。廣西南寧專利代理機構(gòu)東創(chuàng)網(wǎng)小編給大家分享:提交專利技術(shù)交底時,如何完善技術(shù)或產(chǎn)品內(nèi)容?

提交專利技術(shù)交底如何完善技術(shù),

提交專利技術(shù)交底時,如何完善技術(shù)或產(chǎn)品內(nèi)容?

完善技術(shù)的過程也是相當(dāng)于在完善產(chǎn)品,那么我們在優(yōu)化和調(diào)整自身的技術(shù)或產(chǎn)品時,我們要多方面思考如何去完善它們??梢詮囊韵聨讉€方面進(jìn)行具體實踐:

一、在產(chǎn)品設(shè)計過程中,并不是很完善,隨著整理的完善,可以采用合適的方式進(jìn)行改進(jìn)。在資料整理和完善過程中,也是對產(chǎn)品的相關(guān)要素的完善和整理。無論是從點到面,還是面到點,都是可以相互啟發(fā),這種啟發(fā)過程,也是很好的專利保護(hù)和創(chuàng)新的關(guān)鍵點,運用得當(dāng),往往能獲得新的思路和利益。

二、無論是設(shè)計上的缺陷,還是研發(fā)過程中完善的技術(shù)點,都是可以專利申請進(jìn)行保護(hù)的,這也是專利池布局的一種考量。雖然不是最優(yōu)方案,但因為還有創(chuàng)新的點,就可以作為專利申請來保護(hù)。為了不至于暴露最優(yōu)方案,在周邊布局專利,也是一些人和公司的做法。畢竟,創(chuàng)意無限,有好的創(chuàng)意,也是需要來源實踐的。

三、在實踐中,布局一系列專利,但專利的創(chuàng)造點很相似,就可能構(gòu)成非正常申請。因此,考慮的專利創(chuàng)新的角度和改善的幅度有問題, 有必要采用合適的方式進(jìn)行布局和完善,也是專利技術(shù)交底書提交的關(guān)鍵點,如果打算申請多個相關(guān)專利,最好能一起提供,而不是分期甚至拉得間隔很長,因為,這樣自己可能被自己的專利公開,構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。

專利技術(shù)交底書的撰寫看似較為簡單,但是還是要運用合適的方式完成,也要在合適的時間節(jié)點,還要提供有助于公開和保護(hù)平衡點的關(guān)鍵技術(shù),才會形成一份不錯的技術(shù)交底書。廣西南寧專利代理機構(gòu)東創(chuàng)網(wǎng),33年專利代理經(jīng)驗,平均授權(quán)率90+%,不通過全額退。13397812762

【本文標(biāo)簽】 提交專利技術(shù)交底如何完善技術(shù)

【責(zé)任編輯】東創(chuàng)網(wǎng)

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